由中国物理学会质谱分会，北京雪迪龙科技股份有限公司联合主办，中国科学院上海应用物理研究所，分析测试百科网，中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组协办的质析毫微·谱绘万象——半导体痕量成分检测技术交流会将于2025年7月17日在上海·中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心举行。
当前全球半导体产业竞争已进入纳米级工艺时代，痕量杂质检测成为决定芯片性能、良品率及可靠性的核心环节。在单晶硅制备、光刻胶纯化、刻蚀气体分析等关键流程中，十亿分之一（ppb）甚至万亿分之一（ppt）级别的杂质都可能引发器件失效。二次离子质谱（SIMS）、气相色谱（GC）、ICP-MS、光腔衰荡光谱（CRDS）等尖端技术凭借原子级灵敏度与多维度分析能力，成为破解痕量成分检测难题的核心工具。
然而，我国高端科学仪器长期依赖进口，尤其在半导体领域，检测设备的自主可控面临严峻挑战：核心部件（如高亮度离子源、超精密质量分析器）受制于人，复杂场景下的算法模型尚待突破，设备稳定性与国际先进水平存在代际差距。随着国家《高端科学仪器自立自强专项行动》的推进，加速国产仪器技术迭代、构建产学研用协同创新链，已成为支撑半导体产业链安全的战略需求。
在此背景下，本次技术交流会以 “质析毫微·谱绘万象”为愿景，聚焦SIMS、GC、ICP-MS、CRDS等技术的国产化突破路径与产业化实践，汇聚学术界前沿成果与企业界工程经验，旨在打通“技术研发-场景验证-商业应用”闭环，为我国半导体检测技术自立自强注入新动能。
主办单位：
中国物理学会质谱分会
北京雪迪龙科技股份有限公司
协办单位：
中国科学院上海应用物理研究所
分析测试百科网
中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组
会议时间：2025年7月17日（全天）
会议地点：中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心（上海市）嘉定区嘉罗公路2019号
会议主题：半导体痕量成分检测技术
拟邀对象：科研院所、高校专家学者，半导体产业链企业技术负责人，检测仪器研发精英等
参会费用：本次会议免费，参会人员食宿自理。
一、会议亮点
主题报告：行业专家分享技术前沿与实践案例
专题研讨：产学研多方共议国产仪器技术升级路径
交流对接：促进行业资源整合与合作
二、会议议程
三、会议联系人
刘会兰
电话：18942663827
赵慧君
电话：17721272659
会议住宿协议酒店：
上海嘉定希尔顿花园酒店（预定电话：王柯 15336686841）
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