以高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术，可以明显提高薄膜结构可控性，进而获得优异的薄膜性能，在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步，国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨，为其发展与应用带来了蓬勃动力！中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织，于2017年提出在国内举办高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题研讨会，并连续在上海、兰州、深圳和重庆成功举办四届，交流报告数量和质量显著提升，交流内容涉及高功率脉冲磁控溅射过程中电子与离子的相互作用，深振荡、中频叠加等电源与阴极靶结构协同控制等基础研究，工艺参数对膜层性能的影响、工业化存在的主要问题及对策等。参会人员由80人迅速增加到200多人，通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业的对接，推动了我国高功率脉冲磁控溅射技术的发展。兰州作为西北地区重要中心城市，近年来依托国家“一带一路”建设，已发展成为集科技创新、产业升级与生态宜居于一体的现代化都会。兰州学术资源高度集聚，全市院士工作站达28个，形成覆盖基础研究到工程应用的完整科研生态，为表面工程技术创新提供强力支撑。本地新材料产业园区已孵化多家真空镀膜领域高新技术企业，产学研协同优势显著。经中国机械工程学会表面工程分会与西北师范大学协商，定于2025年6月20日～22日在兰州召开“2025高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”。本次具有技术前瞻性的专题会议重回兰州召开，也将推动当地薄膜技术的进一步发展。热忱欢迎国内外从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会，同时，也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业参加会议和提供支持！