半导体材料中的痕量金属杂质会严重影响芯片器件的电学性能与长期可靠性，先进制程对杂质检测下限提出了亚 ppt 级的严苛要求，对样品前处理、洁净环境、质谱抗干扰能力、方法溯源均带来巨大挑战。本次会议旨在搭建产学研线上交流平台，分享实战检测案例，探讨行业技术痛点，推动无机质谱技术在半导体高纯材料质控中的规范化应用，助力半导体材料产业链高质量发展。
11月11日 14:00 ~ 15:30倒计时：6天
半导体材料痕量元素分析与无机质谱应用
会议日程
2026年11月11日
| 时间 | 演讲题目 | 主讲人 | 单位名称 | 职位 |
|---|---|---|---|---|
| 14:00-14:30 | 整体柱微萃取及其在ICP-MS痕量分析中应用 | 胡斌 | 武汉大学化学与分子科学学院 | 教授 |
| 14:30-15:00 | ||||
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